電鍍工藝生產(chǎn)工藝流程線不一樣，但依據(jù)處置目標(biāo)，全部加工工藝涉及到的廢氣關(guān)鍵分成三類：

在其中一類是一般的強(qiáng)酸強(qiáng)堿廢氣，第二類是氰化氫，第三類是鉻酸霧。強(qiáng)酸強(qiáng)堿廢氣:電鍍中涉及到NaOH、H2SO4、HCl等酸堿性廢氣。這類廢氣被大概10%的較低濃度的NaOH堿性溶液中和和吸收。第二類是氰化氫:關(guān)鍵涉及到氰化氫CN-廢氣。這類廢氣被水或次氯酸鈉溶液吸收，次氯酸鈉是一種氧化劑，使氰化氫轉(zhuǎn)化成微毒或無毒性化學(xué)物質(zhì)。或應(yīng)用約0.5%的硝酸亞鐵(凈重)溶液開展吸收解決。第三種鉻酸霧:主要是產(chǎn)品工件在不銹鋼池里釋放出來的鉻酸(H2Cro4)廢氣。這類廢氣最先選用鉻酸霧搜集回收利用設(shè)備，自來水或約10%的焦亞硫酸鈉溶液吸收。

1、強(qiáng)酸強(qiáng)堿廢氣工藝處理表明：

廢氣最先抵達(dá)廢氣凈化塔慢慢增加的內(nèi)筒并降速。在清洗塔內(nèi)部，有漸近段內(nèi)筒、勻稱格珊、填料層和噴漆設(shè)備。廢氣根據(jù)水簾層從離心風(fēng)機(jī)壓進(jìn)塔內(nèi)均壓室，根據(jù)勻稱格珊進(jìn)到一級(jí)填料層。這時(shí)，循環(huán)水泵持續(xù)運(yùn)作并從自動(dòng)噴淋系統(tǒng)液體調(diào)節(jié)器做霧化噴出來的中和液（應(yīng)用約10%的NaOH較低濃度的堿性溶液）與酸堿性廢氣充足觸碰汽體和液體，倒流清理并造成中和反映。塔內(nèi)填料選用高品質(zhì)新式PP填料，使PP填料周邊的廢氣分布均勻，各點(diǎn)接觸，排序Z或W不規(guī)律線路，無偏流狀況，大大增加了液氣觸碰室內(nèi)空間和總面積，使廢氣和液體充足觸碰，做到超中和吸收情況。那樣，液氣二相的混和率應(yīng)做到97%以上。這時(shí)，廢氣應(yīng)根據(jù)慢慢擴(kuò)大段降速至二、三級(jí)填料層，隨后根據(jù)二相充足反映得到液氣和液體。此后，廢氣和液體應(yīng)徹底觸碰，隨后除去霧汽體，并做到超出規(guī)范國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的B208。

2、氰化氫廢氣工藝處理表明：

廢氣最先抵達(dá)廢氣凈化塔慢慢增加的內(nèi)筒并降速。在清洗塔內(nèi)部，有漸近段內(nèi)筒、勻稱格珊、填料層和噴漆設(shè)備。廢氣根據(jù)水簾層從離心風(fēng)機(jī)壓進(jìn)塔內(nèi)均壓室，根據(jù)勻稱格珊進(jìn)到一級(jí)填料層。這時(shí)，循環(huán)水泵持續(xù)運(yùn)作并從自動(dòng)噴淋系統(tǒng)液體調(diào)節(jié)器做霧化噴出來的中和液（應(yīng)用約10%的NaOH較低濃度的堿性溶液）與酸堿性廢氣充足觸碰汽體和液體，倒流清理并造成中和反映。塔內(nèi)填料選用高品質(zhì)新式PP填料，使PP填料周邊的廢氣分布均勻，各點(diǎn)接觸，排序Z或W不規(guī)律線路，無偏流狀況，大大增加了液氣觸碰室內(nèi)空間和總面積，使廢氣和液體充足觸碰，做到超中和吸收情況。那樣，液氣二相的混和率應(yīng)做到97%以上。這時(shí)，廢氣應(yīng)根據(jù)慢慢擴(kuò)大段降速至二、三級(jí)填料層，隨后根據(jù)二相充足反映得到液氣和液體。此后，廢氣和液體應(yīng)徹底觸碰，隨后除去霧汽體，并做到超出規(guī)范國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的B208。

這類廢氣被次氯酸鈉溶液吸收，次氯酸鈉是一種氧化劑，使氰化氫轉(zhuǎn)化成微毒化學(xué)物質(zhì)或無毒性化學(xué)物質(zhì)?；驊?yīng)用約0.5%的硝酸亞鐵(凈重)溶液開展吸收解決。

3、鉻酸霧廢氣工藝處理表明：

在玻璃鋼防腐風(fēng)機(jī)的排氣管功效下，鉻酸罐里的廢氣最先進(jìn)到鉻酸回收利用設(shè)備。在鉻酸回收利用設(shè)備中，廢氣流動(dòng)速度減少，廢氣從下向上根據(jù)填料層。填料層過慮后，廢氣中的絕大多數(shù)鉻酸堆積在底端，根據(jù)鉻酸罐采集并多次重復(fù)使用。在通風(fēng)機(jī)的效果下，回收利用的較低濃度的鉻酸廢氣再次進(jìn)到鉻酸廢氣凈化設(shè)備開展有效的解決。吸收液選用10%上下的焦亞硫酸鈉溶液開展吸收解決。廢氣做到GB21900-2008電鍍工藝污染物質(zhì)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)中相對(duì)應(yīng)的表5規(guī)范，超出后根據(jù)排汽管排進(jìn)空氣。